products category
刻蝕系統
Related articles
全自動磁控濺射系統能夠精確控制薄膜的厚度和均勻性
淋浴頭氣流的平面ICP離子源應用于ALD系統
進口雙模式刻蝕機的主要特點
原子層沉積設備技術:發展趨勢
金屬有機化學氣相沉積系統是如何制造半導體薄膜的?
產品中心/ products
NIE-3000IBE離子束刻蝕
聯系電話:021-62318025
NIE-3000IBE離子束刻蝕產品概述:該系統為手動放片取片,但通過計算機全自動實現工藝控制的臺式離子束刻蝕系統,系統具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優勢。該系統所配套的所有核心組件均為。
NIE-3000IBE離子束刻蝕產品特點:
產品應用:
返回列表
021-62318025
掃碼加微信
點擊隱藏