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派瑞林parylene鍍膜設備
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派瑞林parylene鍍膜設備Series 3000 LV 600/700為派瑞淋涂覆系統,廣泛應用于多個行業,包括航天航空、半導體、新能源、軍工、汽車、手機、新型顯示、電子元器件、光通訊、軌道交通、3C數碼及電子等領域。
Parylene System Series 3000 LV 600/700 是一款模塊化設計的系統,主要由兩部分組成:腔室模塊與蒸發器模塊。我們眾多設備均采用此類模塊化設計,旨在確保系統的靈活性,從而能夠根據客戶需求對幾乎任何組件進行定制化調整。其中,“3000"代表產品系列,而“LV600/700"則用于標識機器腔室的尺寸規格。該尺寸設計主要取決于您單次運行中需要涂覆的基板尺寸及數量要求。 我們所提供的腔室最大容積可達 1000 升。此外,該系統標配等離子源,并可選配旋轉工作臺、加熱/冷卻臺以及多達 3 個質量流量控制器,以滿足不同氣體入口的需求。
派瑞林parylene鍍膜設備Series 3000 LV 600/700
尺寸 | L:2400mm W:960mm H:1460mm |
重量 | 350kg |
腔體容量 | 600/700L |
工藝腔體 | 800mm? H: 1100mm (600 L) 800mm? H: 1300mm (700 L) |
等離子源 | 2.45GHz, 1200 W |
氣路 | 1 路氣體通道(內置工藝腔室的氣體分配系統),最多可擴展至 3 路氣體通道。 |
冷卻系統 | 8L(機電式冷阱) |
真空連接 | DIN 63 ISO-KF |
排氣 | 電磁式排氣閥 |
真空泵 | 抽速75m3/h |
電氣連接 | 三相五線制,交流 50 Hz,電壓 400 V / 240 V,最大功率消耗 8.5 kW |
我們提供的Parylene派瑞林真空鍍膜設備既有適用于科研領域的實驗型機型,也有適用于工業量產領域的工業機型。同時,我們也可以根據需求在真空腔體中集成等離子源,實現在沉積之前能夠對基材進行表面化處理,從而提高薄膜的粘附性。另外,我們也可以提供適用于超凈間使用的系統設計,在小占地面積下提供高性能技術,節約大量的超凈間占地空間。
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